万众一“芯”系列撰文——记2019年度优秀团队:veeco工艺团队-pg电子直营

万众一“芯”系列撰文——记2019年度优秀团队:veeco工艺团队
2020-03-23

在淮安澳洋顺昌红墙黛瓦的厂房内,有这样一群斗志昂扬的“黄衣人”。人们总是能看见他们穿梭于机台时忙碌的身影,他们信奉着“人心齐,泰山移”的团队精神,对待工作一丝不苟,对待同事团结合作,他们一路相互扶持与学习,共同成长,成为了今年最令人瞩目的团队。这就是2019年度优秀团队——veeco工艺团队。





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2019年,整个led市场都遭遇了一场严酷的暴风雪,在面对严峻的外部环境时,这群平均年龄只有30岁的年轻团队,却激发了强大的工作热情,面对困难敢于亮剑。2019年初,团队全面导入新底层,通过更换缓冲层结构调整克服平边雾化、解决wafer表面角锥及粗化问题。同步推行缩时降本专案,达成程序缩时16%,机台产能提升约20%。他们默默地为公司抵御着严寒的侵袭,为公司的发展贡献了属于自己的强劲动力。



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丰富产品结构,提升产出能力。高压产品外延结构持续开发,市场反馈良好,产品订单不断增加。通过配合研发部门导入背光、高光效结构, 迅速提升到10万片以上高光效片源的产出能力,确保衬底类型的多样化。对面年中波长std不够稳定等问题,通过调整aln工艺,优化buffer结构,升降温速率改善std,波长良率在11月份后持续上升,6nm命中率提升5%,波长std均值下降0.2。2019-q4季度31*4全面升级到35*4,底层气流的调整和aln-pvd工艺差异化对工艺提升起到明显效果,现阶段逐步导入中。


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深耕良率改善,品质持续提升。2019年q4中,pie提出的三项公司级良率改善项目,全部达成。机台导入esd加强结构,所有版型esd-2k良率提升近2%,高压产品良率提升近5%。随着外延结构抗静电能力的不断提升,划裂esd/ir衰减也呈现不断下降的趋势,2020年目标将衰减 rate>5%的比例做到近乎为0。表面a级品率提升15%左右,改善了外延边缘pits和表面液滴等问题。目前表面a品率持续改善中,向更高的目标而努力。高光效产品是公司重点打造的高潜产品,前期通过优化外延p-gan结构,后期结合芯片工艺制程的共同改进,q4季度vf3良率提升3.5%-4%。最具份量的是,在2019年完成了lop提升4%以上的公司年度目标。



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成绩的取得和技术难题的化解离不开外延工艺团队每一个人的辛勤付出与坚持。他们深知,前面还有很长的路要走,一步都不能停歇,竞争对手走得快,我们要比他们更快,定能提前到达成功的彼岸,2020,加油!


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